簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "Choung-Lii Chao".ecommittee (精準) and ckeyword.raw="奈米壓痕試驗"


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    銅鈍化層之奈米劃痕硬度分析於化學 機械拋光製程模式硏究
    • 機械工程系 /110/ 博士
    • 研究生: Mohit Sharma 指導教授: 陳炤彰
    • 化學機械拋光(Chemical Mechanical Polishing, CMP)是半導體製造中最關鍵的製程且廣泛應用。了解拋光墊與晶圓接觸的機械相互作用以及晶圓表面的化學變化對於CMP製程的材料…
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    • 全文公開日期 2024/09/28 (校內網路)
    • 全文公開日期 2024/09/28 (校外網路)
    • 全文公開日期 2024/09/28 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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